電鑄光闌加工是一種基于電沉積原理的精密制造技術，通過電解作用在模具表面沉積金屬層，最終獲得與模具凹凸結構相反的高精度光闌元件。以下是電鑄光闌加工流程的詳細介紹：

一、電鑄光闌加工基本原理

1.電極設置：以導電原模（如金屬或非金屬模具）為陰極，電鑄材料（如鎳、鈷合金）為陽極。

2.電解液作用：將電極浸入與陽極材料相同的金屬鹽溶液（如硫酸鎳溶液）中。

-電流驅動：在直流電作用下，陽極金屬原子溶解為離子進入溶液，并在陰極原模表面沉積，形成金屬層。

3.分離成型：當沉積層達到預定厚度（通常0.05~0.18mm）后，分離原模與電鑄層，獲得最終產品。

二、電鑄光闌加工流程

電鑄光闌加工需經過多道精密工序：

1.原模準備：

-設計并制作非金屬（如PVC塑料）或金屬（如鋁合金）原模，表面需凈化處理。

-非金屬原模需導電化（如鍍導電層），金屬原模需鈍化處理。

2.電鑄光闌前處理：

-拋光：用金相砂紙打磨原模表面，確保平整度。

-清洗：超聲清洗去除油脂、灰塵等雜質。

-浸蝕：用硝酸或氧化鐵-硫酸溶液浸蝕，增強表面活性及結合力。

3.電鑄過程：

-分層沉積：先電鑄薄銅層（約0.1mm）增強結合力，再電鑄鎳鈷合金至目標厚度。

-參數(shù)控制：嚴格調控電流密度、溫度及時間，確保沉積均勻性。

4.后處理：

-襯背加固：對電鑄件進行機械加固，提高穩(wěn)定性。

-脫模清洗：分離原模與電鑄層，清洗殘留電解液。

-熱處理：消除內應力，提升電鑄層塑性。

三、電鑄光闌應用領域

電鑄光闌片因其高精度及復雜結構加工能力，廣泛應用于：

1.光學儀器：顯微鏡、望遠鏡、激光器中控制光束形狀、大小和方向。

2.半導體設備：光刻機、蝕刻機中用于精密光路控制。

3.航空航天：衛(wèi)星、航天器光學系統(tǒng)中實現(xiàn)高精度光束調制。

4.生物醫(yī)學：內窺鏡、光學相干斷層掃描（OCT）設備中提升成像質量。

四、電鑄光闌技術優(yōu)勢

1.高精度復制：

-孔徑精度達±0.003mm，位置偏差±0.010mm，表面粗糙度<0.001mm，滿足極端精度需求。

2.材料性能可控：

-通過調整金屬種類（如金、銀、鎳）、電解液配方及工藝參數(shù)，可定制機械強度、反射率等性能。

3.復雜結構加工：

-可制造大面積（直徑達數(shù)米）及三維復雜結構光闌，適應多樣化光學設計。

4.耐用性與穩(wěn)定性：

-電鑄光闌片耐磨損、耐腐蝕，延長光學儀器使用壽命，尤其適合惡劣環(huán)境應用。

5.成本效益：

-設備投資相對較低，加工余量小，材料可回收利用，降低生產成本。

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